金刚石薄膜都有哪些制备手段及功能性应用

金刚石具有优良的物理和化学性质，是已知的最坚硬的金属，它还具有较低的摩擦系数、最高的弹性模量、最高的热导率、良好的化学稳定性、较大的带隙和较小的介电常数。在切削工具、微机电系统、生物医学、航空航天、核能等高新技术领域具有广阔的应用前景。金刚石薄膜继承了金刚石的优良传统，其制备和应用受到研究者的广泛关注。让我们看看其他一些制备金刚石薄膜的方法和它们的功能应用

1.热丝化学气相沉积方法

热丝化学气相沉积法是成功进行制备金刚石薄膜的最早研究方法问题之一。与其他方法可以相比，该沉积技术发展具有重要设备管理简单、成膜速率快、操作更加方便、成本低等优点，是当前我国国内外制备金刚石刀具薄膜涂层的主要分析方法。但值得我们注意的是因为热丝是金属（通常为钨和钽）材料，不可为了避免地会污染金刚石薄膜。因此公司也有在某些数据应用不同场合有所限制。

根据不同的应用领域，目前采用HFCVD法制备的金刚石涂层可以使用不同的基底材料。工具切割领域的金刚石涂层基体材料主要是WC-Co碳化物材料、电子材料的Re基体和硅片、钻头的碳化硅基体和自支撑金刚石涂层。

2.微波等离子体化学气相沉积法

微波等离子体不同于其他等离子体，它在微波作用下可以实现无电极稳定放电，样品污染少，在微波作用下可以充分活化快速振荡气体，形成较高的等离子体密度。因此，mpcvd 通常用于生长高质量的金刚石薄膜。但其缺点是不易大面积生长金刚石薄膜。

3. 化学气相沉积

利用一个直流电弧放电所产生的高温等离子体使得不同沉积环境气体离解。由于在制备研究过程当中，等离子体的高能量密度与其所伴随的化学物质反应公司产生的原子氢、甲基原子团及其他激活原子团密度具有很高，因此对于直流等离子体喷射CVD法沉积金刚石薄膜的速率也是非常高，可达每小时数十微米至数百微米。虽然该制备技术方法我们可以自己获得价值很高的生长发展速率，但设备公司投资大、成本费用过高、工艺过程难以有效控制，而且随着沉积的金刚石膜面积小、膜厚不均匀、对基片的热损伤问题严重。

4.燃烧火焰的化学气相沉积方法

火焰化学气相沉积法的原理是在烃类气体中预混合部分氧气，然后进行扩散燃烧，所用的碳源气体是乙炔，助燃气体是氧气，乙炔和氧气燃烧产生的等离子体气流在基体表层沉积金刚石膜。 所合成的金刚石薄膜质量高、速度快(100～180 μ m/h),有利于大面积、复杂的表层。 缺点是膜具有大的热应力并且容易具有杂质。