pvd镀膜机的工艺原理及应用

　　pvd镀膜机是一种在真空条件下，在基片上溅射、蒸发或离子镀钛、金、石墨、晶体等金属或非金属、气体等材料的表层处理技术。与传统的化学镀膜方法相比，真空镀膜有很多优点:对环境无污染，是一种绿色环保的工艺;对操作者无伤害;膜层坚固、致密、耐蚀性强、膜厚均匀。pvd镀膜机技术中常用的方法有蒸发镀膜(包括电弧蒸发、电子枪蒸发、电阻丝蒸发等。)和溅射镀膜(包括DC磁控溅射、中频磁控溅射、射频溅射等。)，它们统称为物理气相沉积(PVD)。

　　相应的化学气相沉积(CVD)称为CVD技术。在工业上通常称为IP(离子镀)离子镀膜，因为在PVD技术中，各种气体离子和金属离子参与成膜过程，起着重要作用。为了强调离子的作用，统称为离子镀膜。pvd镀膜机是一种制备薄膜材料的技术。在真空室中，材料的原子与热源分离，撞击到被镀物体的表层。利用掩模技术制备光盘上的铝膜和印刷电路板上的金属膜。

       真空镀膜有三种形式，即蒸发镀膜、溅射镀膜和离子镀膜。蒸发镀膜是通过加热蒸发将物质沉积在固体表层的一种镀膜。金属、化合物等蒸发材料放在坩埚内或挂在热丝上作为蒸发源，而金属、陶瓷、塑料等则等待镀基板放在坩埚前。在pvd镀膜机系统被抽成高真空后，加热坩埚以蒸发物质。蒸发物质的原子或分子通过冷凝沉积在基底表层。薄膜厚度范围从几百埃到几微米。薄膜厚度由蒸发源的蒸发速率和蒸发时间(或装载量)决定，并与源和基底之间的距离有关。