铟基半导体材料 三氯化铟四水

山东德盛新材料有限公司 2025-08-05 14:20:14

铟基半导体材料 三氯化铟四水
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铟基半导体材料 三氯化铟四水
氯化铟(Ⅲ)四水合物可能作为前驱体用于合成铟基纳米材料,这些材料在光催化、传感器等领域展现出一定潜力电子与半导体行业透明导电薄膜制备:氯化铟是制备氧化铟锡(ITO)薄膜的关键原料。通过溶胶 - 凝胶法、溅射法等工艺,将氯化铟与锡盐(如氯化锡)的混合溶液转化为 ITO 薄膜,该薄膜具有高导电性(电阻率低至\(10^{-4}Ω\cdot cm\))和高透光率(>80%),广泛用于触摸屏、液晶显示器(LCD)、太阳能电池等器件的电极材料。半导体掺杂剂:在 Ⅲ-Ⅴ 族化合物半导体(如 InP、InAs)的制备中,氯化铟作为铟源,通过气相外延(VPE)或金属有机化学气相沉积(MOCVD)工艺掺杂到半导体晶格中,调控材料的电学性能,用于制造高频晶体管、光电子器件等。催化剂领域氯化铟可作为路易斯酸催化剂,参与傅克反应、缩合反应等有机合成反应,例如在芳烃的烷基化反应中,其催化活性高且选择性好,可替代传统的铝基催化剂,减少环境污染。在燃料电池中,铟基化合物(以氯化铟为前驱体)可作为电极催化剂的助剂,提高催化剂对氧还原反应的活性和稳定性。

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