射频离子源：阳极膜线性离子源的特色及用途

射频离子源 根据阳极层线性封闭漂移的理论，气体以离子形式在阴极和阳极之间通过，阳极的正电压与施加在内部和外部阴极末端之间的强磁场相互作用，从而 产生等离子体。 驱动阳极电场以从离子源产生离子束射流。

阳极膜线性离子源的用途

  可用作清理离子源以清理基材表层。

  DLC和光学膜，氧化物，氮化物等可以在磁控溅射过程当中作为离子辅助沉积直接镀在柔性基板上。

 阳极膜线性离子源的特色

  低气压，低电压，高束流。 阳极膜离子源产生的低能量，高电流离子束可有效去除基材表层上的有机污染物和氧化膜，增加薄膜的附着力，并避免在轰击时损坏基材（ 例如平板显示器涂料，柔性基材涂料）。

  没有灯丝，格栅和中和格栅，它可以长时间稳定运行并生产。 从故障到极地维护的平均时间非常高。 由于阳极膜离子源不需要灯丝，空心阴极和其他电子中和器，并且完全经过水冷，因此其对涂层环境温度的所有变化都很小。 此功能对热敏性基材的涂层非常有益。 同样，由于没有电子中和器，因此可以长时间不维护地工作。

  能适应各种反应气体和惰性气体。 阳极膜离子源的结构和材料组成使其完全适用于大多数反应性气体，例如氮气，氧气和甲烷。

  离子源的长度可以根据用户需要制造。