文章摘要: 现有的E型电子枪磁场是通过放置单个永磁体来调节的,没有可调性,只能针对一个真空靶设置,具有单一性和局限性。当其他真空靶被替换和溶解时,有两种现象。一是能量过于集中,造成真空目标飞溅。严重时,飞溅的真空靶进入旋转坩埚灾难,造成坩埚卡死。另一方
现有的E型电子枪磁场是通过放置单个永磁体来调节的,没有可调性,只能针对一个真空靶设置,具有单一性和局限性。
当其他真空靶被替换和溶解时,有两种现象。一是能量过于集中,造成真空目标飞溅。严重时,飞溅的真空靶进入旋转坩埚灾难,造成坩埚卡死。另一方面,由于能量太小,溶解太慢,加工件表层会出现雾化等缺点。
因此,当E型电子枪溶解真空靶时,需要稳定磁场的作用,稳定磁场需要针对不同的真空靶进行调节。因此,单个永磁体产生的磁场不可满足其要求,造成真空溶解时缺点很大。
要解决的技术问题是提供一种E型电子枪磁场调节器,以战胜磁场不稳定造成的聚焦不良。技术问题是通过以下技术方案解决的:
一种用于E型电子枪的磁场调节器,包括调节器壳体、标尺、永磁滑块和固定螺栓,调节器壳体上有两排滑道,标尺在1-10厘米范围内,永磁滑块有内螺纹,固定螺栓有外螺纹,可以将永磁滑块固定在调节器壳体上,调节器固定在旋转坩埚壳体上。
一种电子枪磁场调节器,其特征在于调节器外壳上设有刻度,可以读取相应的刻度值。永磁滑块可以在调节器壳体上滑动。固定螺栓将永磁滑块固定在调节器壳体上的固定位置,固定螺栓将调节器固定在旋转坩埚壳体上。
E型电子枪磁场调节器的制造方法
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