聚四氟乙烯方槽20L耐腐蚀一体成型四氟酸缸5L

聚四氟乙烯（PTFE/PFA）清洗槽是一种高性能耐腐蚀容器，专为半导体、光伏、光电等行业设计，采用一体成型工艺，具备耐强酸强碱、耐高低温、低溶出无污染等特性，主要用于晶圆清洗、设备零部件清洗、材料刻蚀及实验室器皿浸泡等场景。

可耐受氢氟酸、硫酸、硝酸、王水等强酸，氢氧化钠等强碱，以及各类有机溶剂（如丙酮、NMP），长期使用无溶胀或降解，避免金属离子污染样品。
金属元素空白值极低（铅、铀含量＜0.01 ppb），符合半导体行业超净环境要求。
一体成型设计：无焊接缝，杜绝漏液风险，延长使用寿命。
表面光滑：内外壁无毛刺，不挂壁，易于清洗，避免交叉污染。
方槽：适用于浸泡、清洗带芯片硅片电池片的花篮，或存储酸碱溶剂。
半导体制造
晶圆清洗：盛装硫酸、氢氟酸、氨水等清洗液，去除晶圆表面污染物、颗粒和金属杂质。
晶圆刻蚀：盛装氢氟酸、硝酸、磷酸等刻蚀液，对晶圆表面进行选择性刻蚀，形成电路图案。
材料刻蚀：加工硅、二氧化硅等半导体材料时，盛装相应刻蚀液进行湿法刻蚀。
抛光液盛放：为化学机械抛光（CMP）工艺提供稳定的化学环境，平坦化晶圆表面。
实验室分析
浸泡清洗溶样杯、消解罐、试剂瓶、坩埚、烧杯等实验室器皿，避免交叉污染。